CMP对于征尺寸小于0.25um的产品无任何影响。

氧化膜和钨的研磨液都具有高选择性。

判断题氧化膜和钨的研磨液都具有高选择性。

以下哪些算法可用于遍历网络图？（）A.广度优先搜索B.深度优先搜索C.线性规划策略D.决策树

多项选择题以下哪些算法可用于遍历网络图？（）

下列选项中属于集成电路工艺过程的是（）。A.外延B.注入C.光刻D.EDA

多项选择题下列选项中属于集成电路工艺过程的是（）。