下面（）不属于钨的干法刻蚀所使用的气体。

在集成电路制造过程中，刻蚀通常是在（）之后进行的，刻蚀与光刻一起实现了将掩膜版上的图形转移到薄膜上。A.显影B...

单项选择题在集成电路制造过程中，刻蚀通常是在（）之后进行的，刻蚀与光刻一起实现了将掩膜版上的图形转移到薄膜上。

下面关于刻蚀效果的描述中错误的是（）。A.刻蚀均匀性要好B.图形的保真度好C.刻蚀选择比低D.刻蚀的洁净度高

单项选择题下面关于刻蚀效果的描述中错误的是（）。

袁宏道“独抒性灵、不拘格套”的观点出自文章（）。A、《叙小修诗》B、《王谑庵先生传》C、《童心说》D、《游荷叶...

单项选择题袁宏道“独抒性灵、不拘格套”的观点出自文章（）。