硅Sirtl腐蚀剂的腐蚀时间是（）

半导体硅的常用腐蚀剂H2O2液体试剂的浓度是（）A.70%B.49%C.30%

单项选择题

半导体硅的常用腐蚀剂H₂O₂液体试剂的浓度是（）

半导体硅的常用腐蚀剂HNO3液体试剂的浓度是（）A.70%B.49%C.30%

单项选择题

半导体硅的常用腐蚀剂HNO₃液体试剂的浓度是（）

半导体硅的常用腐蚀剂HF液体试剂的浓度是（）A.70%B.49%C.30%

单项选择题半导体硅的常用腐蚀剂HF液体试剂的浓度是（）