单项选择题
A.10~15min B.20min以上 C.1~16h
半导体硅的常用腐蚀剂H2O2液体试剂的浓度是()A.70%B.49%C.30%
半导体硅的常用腐蚀剂H2O2液体试剂的浓度是()
A.70%B.49%C.30%
半导体硅的常用腐蚀剂HNO3液体试剂的浓度是()A.70%B.49%C.30%
半导体硅的常用腐蚀剂HNO3液体试剂的浓度是()
半导体硅的常用腐蚀剂HF液体试剂的浓度是()A.70%B.49%C.30%
单项选择题半导体硅的常用腐蚀剂HF液体试剂的浓度是()