问答题
净化间是硅片制造设备与外部环境隔离，免受诸如颗粒、金属、有机分子和静电释放（ESD）的玷污。一般来讲，那意味着这些玷污在......
(↓↓↓ 点击下方‘点击查看答案’看完整答案 ↓↓↓)
例举出硅片厂中使用的五种通用气体。
问答题例举出硅片厂中使用的五种通用气体。
描述在硅片厂中使用的去离子水的概念。
问答题描述在硅片厂中使用的去离子水的概念。
砷化镓相对于硅的优点是什么？
问答题砷化镓相对于硅的优点是什么？
