判断题
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CMP是一种减薄层材料的工艺并能去除表面缺陷的平坦化技术。()
判断题CMP是一种减薄层材料的工艺并能去除表面缺陷的平坦化技术。()
化学机械抛光CMP设备中的抛光区域温度升高,抛光速率会减小,但是温度过高过低均会引起抛光质量下降。()
判断题化学机械抛光CMP设备中的抛光区域温度升高,抛光速率会减小,但是温度过高过低均会引起抛光质量下降。()
PGA芯片封装特点是在芯片的内外有多个方阵形的插针,每个方阵形插针沿芯片的四周间隔一定距离排列,安装时,需将芯...
判断题PGA芯片封装特点是在芯片的内外有多个方阵形的插针,每个方阵形插针沿芯片的四周间隔一定距离排列,安装时,需将芯片插入专用的PGA插座。()