CVD沉积温度高，而且沉积后要进行淬、回火处理，使得工件的变形增大。

利用CVD法沉积TiN的最佳温度范围是900～1200℃。

判断题利用CVD法沉积TiN的最佳温度范围是900～1200℃。

TiC在高碳钢、高合金钢上的沉积速度比低碳钢、低合金钢慢。

判断题TiC在高碳钢、高合金钢上的沉积速度比低碳钢、低合金钢慢。

化学气相沉积或CVD法是通过气相化学反应在金属表面沉积元素或化合物层的工艺方法。

判断题化学气相沉积或CVD法是通过气相化学反应在金属表面沉积元素或化合物层的工艺方法。