单项选择题
A.腐蚀 B.离子注入 C.光刻 D.CVD
提高光刻最小线宽可以通过提升介质的介电常数实现。
判断题提高光刻最小线宽可以通过提升介质的介电常数实现。
MBE只能用于III-V族化合物的生长。
判断题MBE只能用于III-V族化合物的生长。
等离子体
名词解释等离子体
