单项选择题
A.激光诱导化学气相沉积B.溶胶-凝胶法C.金属有机物化学气相沉积D.磁控溅射法
直流溅射是利用直流辉光放电产生离子轰击靶材进行溅射镀膜的技术，靶材固定在（）极。A.阴B.空C.阳
单项选择题直流溅射是利用直流辉光放电产生离子轰击靶材进行溅射镀膜的技术，靶材固定在（）极。
A.阴B.空C.阳
真空蒸发制膜中，蒸发源在高温下会放气，所以，在蒸发源通电加热之前，可以（），然后对膜材加热去气。A.提高真空度...
单项选择题真空蒸发制膜中，蒸发源在高温下会放气，所以，在蒸发源通电加热之前，可以（），然后对膜材加热去气。
A.提高真空度B.提高真空室温度C.用挡板挡住基片D.增加蒸发源到基片的距离
化学气相沉积（CVD）法的源材料直接为气体，在高温或等离子条件下生长一维纳米材料。
判断题化学气相沉积（CVD）法的源材料直接为气体，在高温或等离子条件下生长一维纳米材料。
