只有在较高的真空条件中，电子和离子才能高速运动。

离子注入的能量远低于离子刻蚀和离子溅射沉积。

判断题离子注入的能量远低于离子刻蚀和离子溅射沉积。

离子溅射镀膜与离子镀过程原理是一样的。

判断题离子溅射镀膜与离子镀过程原理是一样的。

离子的质量远大于电子，故离子束加工的生产率比电子束高，但表面粗糙度稍差。

判断题离子的质量远大于电子，故离子束加工的生产率比电子束高，但表面粗糙度稍差。