WCVD工艺第一步是（）。

Liner barrier阻挡金属间扩散作用的金属是（）。A.金属AlB.金属钛C.金属氮化钛D.金属钨

单项选择题Liner barrier阻挡金属间扩散作用的金属是（）。

掺氯氧化使用的HCL是（）。A.液态源B.固态源C.气态源

单项选择题掺氯氧化使用的HCL是（）。

二氧化硅中每个硅原子周围有（）个氧原子。A.1B.2C.3D.4

单项选择题二氧化硅中每个硅原子周围有（）个氧原子。