单项选择题
A.表面形貌衬度B.原子质量衬度C.原子序数衬度D.衍射衬度
选靶材的依据是（）A.产生的特征X射线作用试样后不被试样吸收B.产生的特征X射线作用试样后可被试样大量吸收C....
单项选择题选靶材的依据是（）
A.产生的特征X射线作用试样后不被试样吸收B.产生的特征X射线作用试样后可被试样大量吸收C.产生的特征X射线作用试样后尽量被试样吸收D.产生的特征X射线作用试样后不被试样相干散射
属于氢核弛豫过程的有（）A.自旋-电子弛豫B.电子-晶格弛豫C.晶格-晶格弛豫D.自旋-晶格弛豫
单项选择题属于氢核弛豫过程的有（）
A.自旋-电子弛豫B.电子-晶格弛豫C.晶格-晶格弛豫D.自旋-晶格弛豫
扫描电镜的境深（）A.大，且可变B.很小C.与光学显微镜相当D.大，但不可变
单项选择题扫描电镜的境深（）
A.大，且可变B.很小C.与光学显微镜相当D.大，但不可变
