单项选择题
A、氯化钠 B、硫酸镍 C、硫酸
电沉积法制备金属层时必须的设备是（）。A、直流电源B、搅拌装置C、过滤装置
单项选择题电沉积法制备金属层时必须的设备是（）。
A、直流电源 B、搅拌装置 C、过滤装置
化学镀镍中最常用的的还原剂是（）。A.硼氢化钠B.次亚磷酸钠C.硼烷
单项选择题化学镀镍中最常用的的还原剂是（）。
A.硼氢化钠 B.次亚磷酸钠 C.硼烷
与电镀镍相比，化学镀镍层有何优异性（）。A、镀镍层脆性大B、沉积速度较慢C、优异的抗蚀性和耐磨性
单项选择题与电镀镍相比，化学镀镍层有何优异性（）。
A、镀镍层脆性大 B、沉积速度较慢 C、优异的抗蚀性和耐磨性
