刻蚀的主要参数有（）

以下刻蚀方法中，不属于各向同性的刻蚀是（）A.湿法刻蚀B.溅射刻蚀C.等离子体刻蚀D.反应离子刻蚀

多项选择题以下刻蚀方法中，不属于各向同性的刻蚀是（）

先进的光刻技术有（）A.EUV曝光B.电子束光刻C.X射线光刻D.纳米压印技术

多项选择题先进的光刻技术有（）

光刻胶的主要性能指标有（）A.灵敏度B.分辨率C.抗蚀性D.黏附性

多项选择题光刻胶的主要性能指标有（）