摩尔定律认为集成电路的集成度每（）月翻一番。

集成电路的英文简称为（）A、LCCB、ICC、MCUD、MC

单项选择题集成电路的英文简称为（）

金属钨的CVD方法中要用到的气体源是（）。A.SiH4B.WF6C.金属钨D.SiF4

单项选择题金属钨的CVD方法中要用到的气体源是（）。

金属有机化合物化学气相沉淀的缩写为（）。A、LPCVDB、MOCVDC、ICPCVDD、APCVD

单项选择题金属有机化合物化学气相沉淀的缩写为（）。