单项选择题
A.一个以上,与非门 B.一个,三态缓冲器 C.n个,三态缓冲器 D.n个以上,或非门
目前大多数集成电路生产中,所采用的基本材料为()。A.非晶硅B.单晶硅C.多晶硅D.硫化镉
单项选择题目前大多数集成电路生产中,所采用的基本材料为()。
A.非晶硅B.单晶硅C.多晶硅D.硫化镉
当代流行的标准总线追求与()、()、()无关的开发技术标准。
填空题当代流行的标准总线追求与()、()、()无关的开发技术标准。
存储器的技术指标有()、()、()。速度指标还可以用()来表示。
填空题存储器的技术指标有()、()、()。速度指标还可以用()来表示。