单项选择题
A.Metal Etch B.Active Etch C.N+Etch D.Passn Etch
CVD成膜是利用捂住的第四态进行的,请问是什么态?()A.固态B.液态C.气态D.Plasma
单项选择题CVD成膜是利用捂住的第四态进行的,请问是什么态?()
A.固态 B.液态 C.气态 D.Plasma
BCS工程中,下列哪一个对ODF工艺只能液晶的摘下量影响最大?()A.TrimmerB.BMC.OCD.CS
单项选择题BCS工程中,下列哪一个对ODF工艺只能液晶的摘下量影响最大?()
A.Trimmer B.BM C.OC D.CS
对于弹性系数k11=k22=k33=k的向列型液晶盒,采用半无界的边界条件,请计算其磁相干长度。
问答题对于弹性系数k11=k22=k33=k的向列型液晶盒,采用半无界的边界条件,请计算其磁相干长度。