常用的溅射镀膜方法有（）溅射、（）溅射和（）溅射，其中（）溅射只能沉积金属膜，（）溅射能够沉积介质膜。

为了获得所设计成分的合金或化合物薄膜，可以采用（）和（）蒸发法。

填空题为了获得所设计成分的合金或化合物薄膜，可以采用（）和（）蒸发法。

蒸发镀膜高真空度的目的主要为：金属或非金属材料的（）温度下降，可以减少蒸汽原子和（）原子的（）

填空题蒸发镀膜高真空度的目的主要为：金属或非金属材料的（）温度下降，可以减少蒸汽原子和（）原子的（）

真空蒸镀薄膜的形成机理有（）型、（）型和（）型。

填空题真空蒸镀薄膜的形成机理有（）型、（）型和（）型。