单项选择题
A.Process Chamber B.Transfer Chamber C.DSSL D.Scrubber
CVD中主要进行镀膜的设备是（）A.Process ChamberB.Transfer ChamberC.DS...
单项选择题CVD中主要进行镀膜的设备是（）
CVD中为了保持非晶硅特性，需要添加的元素是（）A.NB.HC.SiD.O
单项选择题CVD中为了保持非晶硅特性，需要添加的元素是（）
A.N B.H C.Si D.O
CF的本质是在Glass上镀（）A.液体小分子膜B.有机高分子膜C.金属膜D.无极非金属膜
单项选择题CF的本质是在Glass上镀（）
A.液体小分子膜 B.有机高分子膜 C.金属膜 D.无极非金属膜
