单项选择题
A.形成所需的二氧化硅膜厚B.获得致密的二氧化硅表面C.提高二氧化硅和光刻胶的黏附性D.改善二氧化硅和硅交界面的性能
薄膜对应的英文是()A.siliconB.polyC.substrateD.film
单项选择题薄膜对应的英文是()
A.siliconB.polyC.substrateD.film
Ti、Ta、Al、Cu、Pt对应的物质分别是()A.钛、钽、铜、铝、铂B.钛、钽、铝、铜、铂C.钛、钽、铝、铜...
单项选择题Ti、Ta、Al、Cu、Pt对应的物质分别是()
A.钛、钽、铜、铝、铂B.钛、钽、铝、铜、铂C.钛、钽、铝、铜、金D.钛、钽、铝、铜、银
物理汽相淀积的英文缩写是()A.VPEB.CVDC.PVDD.LASER
单项选择题物理汽相淀积的英文缩写是()
A.VPEB.CVDC.PVDD.LASER