单项选择题
A.提高激励电流的频率B.降低导体电阻率C.使用更高磁导率的导体D.对导体进行冷加工
涡流在导体中的分布状况与()相关。A.激励频率和导体电磁特性B.导体电磁特性和厚度C.激励频率和导体厚度D.以...
单项选择题涡流在导体中的分布状况与()相关。
A.激励频率和导体电磁特性B.导体电磁特性和厚度C.激励频率和导体厚度D.以上全部
涡流在导体中的透入深度取决于()。A.激励频率B.导体电导率C.导体磁导率D.以上全部
单项选择题涡流在导体中的透入深度取决于()。
A.激励频率B.导体电导率C.导体磁导率D.以上全部
涡流集中于导体表面分布的现象称为()。A.提离效应B.边缘效应C.趋肤效应D.电磁效应
单项选择题涡流集中于导体表面分布的现象称为()。
A.提离效应B.边缘效应C.趋肤效应D.电磁效应