多项选择题
A.波长更短B.波长更长C.频率更高D.频率更低
电子束光刻的特点是（）A.分辨率高B.速度快C.效率低D.受光波长限制
多项选择题电子束光刻的特点是（）
A.分辨率高B.速度快C.效率低D.受光波长限制
EUV技术难点有（）A.所有设备均需工作在高真空环境下B.靶材的使用寿命较低C.难以找到合适的光刻胶D.光源功...
多项选择题EUV技术难点有（）
A.所有设备均需工作在高真空环境下B.靶材的使用寿命较低C.难以找到合适的光刻胶D.光源功率较低
光刻光源有（）A.汞灯B.准分子激光C.水银弧光灯D.等离子体
多项选择题光刻光源有（）
A.汞灯B.准分子激光C.水银弧光灯D.等离子体
