ICP-MS中截取锥应经常清洗，否则重金属基体沉积在其表面会再蒸发电离形成记忆效应。

经常清洗ICP-MS中截取锥可使记忆效应和多原子离子干扰降低。

判断题经常清洗ICP-MS中截取锥可使记忆效应和多原子离子干扰降低。

ICP-MS中的离子聚焦系统（离子光学透镜/离子光学系统）位于截取锥和质谱分离装置之间，它决定了离子进入质量分...

判断题ICP-MS中的离子聚焦系统（离子光学透镜/离子光学系统）位于截取锥和质谱分离装置之间，它决定了离子进入质量分析器的数量和仪器的背景噪声的水平。

ICP-MS中的离子聚焦系统（光学透镜/离子光学系统）由一组静电控制的离子透镜（离子光学透镜）组成，其原理是利...

判断题ICP-MS中的离子聚焦系统（光学透镜/离子光学系统）由一组静电控制的离子透镜（离子光学透镜）组成，其原理是利用离子的带电性质，用电场聚集或偏转牵引离子。