问答题
光刻是集成电路加工过程中的重要工序，作用是把掩模版上的图形转换成晶圆上的器件结构。曝光方式：接触式和非接触式。
比较整版掩模和单片掩模的区别，并列举三种掩模的制造方法。
问答题比较整版掩模和单片掩模的区别，并列举三种掩模的制造方法。
掩模在IC制造过程中有什么作用？
问答题掩模在IC制造过程中有什么作用？
解释：同质外延、异质外延。
问答题解释：同质外延、异质外延。
