问答题
各向同性刻蚀特点是：1）刻蚀后形成圆弧的轮廓；2）在光刻胶下面的图形出现侧蚀现象；3......
(↓↓↓ 点击下方‘点击查看答案’看完整答案 ↓↓↓)
举例说明PECVD成膜的使用的气体及反应方程。
问答题举例说明PECVD成膜的使用的气体及反应方程。
简述TFT制作中的各种薄膜采用的成膜方法。
问答题简述TFT制作中的各种薄膜采用的成膜方法。
简述干法刻蚀的物理作用和化学作用。
问答题简述干法刻蚀的物理作用和化学作用。
