单项选择题
A.-rwxrwxrwxB.-rw-r-xr-xC.-rwxr-xr-xD.-rwxrw-r-x
()工艺就是往晶圆片中注入离子,生成相应的P、N类半导体的工艺。A.氧化B.掺杂C.光刻D.蚀刻
单项选择题()工艺就是往晶圆片中注入离子,生成相应的P、N类半导体的工艺。
A.氧化B.掺杂C.光刻D.蚀刻
集成电路制造过程中,把版图转移到晶圆的过程叫()。A.设计规则B.封装C.光刻D.测试
单项选择题集成电路制造过程中,把版图转移到晶圆的过程叫()。
A.设计规则B.封装C.光刻D.测试
通常讲的28nm工艺,是指()。A.wafer的直径B.管芯的大小C.晶体管的面积D.晶体管沟道长度
单项选择题通常讲的28nm工艺,是指()。
A.wafer的直径B.管芯的大小C.晶体管的面积D.晶体管沟道长度