问答题
蒸发源发射特性,由蒸发源结构、蒸发膜料不同的发射分布特性引起;蒸发源与被镀件的相对位置;被镀件的面形。
试叙述光电极值法监控膜厚的基本原理。
问答题试叙述光电极值法监控膜厚的基本原理。
什么是单层介质膜层反射率的双重周期性?其周期性的主要特点有哪些?
问答题什么是单层介质膜层反射率的双重周期性?其周期性的主要特点有哪些?
热蒸发技术常用的蒸发源有()和()。
填空题热蒸发技术常用的蒸发源有()和()。