问答题
描述分立器件和集成电路的区别
问答题描述分立器件和集成电路的区别
解释说明自对准栅工艺流程,为什么当图形化尺寸小到0.18um时,使用钴硅化物取代钛硅化物?为什么当图形化尺寸小...
问答题解释说明自对准栅工艺流程,为什么当图形化尺寸小到0.18um时,使用钴硅化物取代钛硅化物?为什么当图形化尺寸小到65nm时,使用镍硅化物取代钴硅化物?
简述CMOS IC工艺中的三种阱区形成工艺
问答题简述CMOS IC工艺中的三种阱区形成工艺