单项选择题
A.PC COUNTER B.Macro Scope C.CST CLEANER D.Hard Baker
TFT工程4 Mask中，需要wet刻蚀的膜有几层？（）A.1B.2C.3D.4
单项选择题TFT工程4 Mask中，需要wet刻蚀的膜有几层？（）
A.1 B.2 C.3 D.4
Line Wet Etch采用的刻蚀方式（）A.Time EtchB.EPD EtchC.OVER ETCHD...
单项选择题Line Wet Etch采用的刻蚀方式（）
A.Time Etch B.EPD Etch C.OVER ETCH D.JUST ETCH
Etchant管理的要素包含（）A.温度B.成分C.更换时间D.以上全部
单项选择题Etchant管理的要素包含（）
A.温度 B.成分 C.更换时间 D.以上全部
