单项选择题
A.龈沟内是免疫区 B.修复体边缘密合性好 C.不易产生继发龋 D.美观 E.防止菌斑附着
用于判断全冠试戴时是否就位的标志中不正确的是（）。A.龈边缘达到位置B.稳定性好C.咬合基本合适D.固位良好E...
单项选择题用于判断全冠试戴时是否就位的标志中不正确的是（）。
A.龈边缘达到位置 B.稳定性好 C.咬合基本合适 D.固位良好 E.无翘动
导致全冠试戴时出现翘动的原因中不包括（）。A.全冠组织面有金属瘤B.邻接触紧C.石膏代型磨损D.未完全就位E....
单项选择题导致全冠试戴时出现翘动的原因中不包括（）。
A.全冠组织面有金属瘤 B.邻接触紧 C.石膏代型磨损 D.未完全就位 E.预备体轴壁聚合度大
对腭小凹的描述错误的是（）.A.位于腭中缝的后部B.位于软硬腭交界处的稍后方C.数目多为并列的两个，左右各一D...
单项选择题对腭小凹的描述错误的是（）.
A.位于腭中缝的后部 B.位于软硬腭交界处的稍后方 C.数目多为并列的两个，左右各一 D.上颌义齿的后缘应止于腭小凹 E.腭小凹是口内黏膜腺导管的开口
