单项选择题
A.电解法B.化学沉淀法C.加硫化钠D.加双氧水后升温
在普通镀镍工艺中,去除铜杂质的常用方法是()。A.电解法B.沉淀法C.加硫化钠D.加入锌粉
单项选择题在普通镀镍工艺中,去除铜杂质的常用方法是()。
A.电解法B.沉淀法C.加硫化钠D.加入锌粉
在镀铬工艺中,去除硫酸根离子的方法是()。A.加入碳酸钡B.加入氯化钡C.升温D.电解
单项选择题在镀铬工艺中,去除硫酸根离子的方法是()。
A.加入碳酸钡B.加入氯化钡C.升温D.电解
在镀铬工艺中,氯离子的存在不能产生()的影响。A.恶化镀液分散能力B.使镀层粗糙C.使铅阳极受腐蚀D.使铬沉积
单项选择题在镀铬工艺中,氯离子的存在不能产生()的影响。
A.恶化镀液分散能力B.使镀层粗糙C.使铅阳极受腐蚀D.使铬沉积