问答题
干法刻蚀是采用等离子体进行刻蚀的技术，根据原理分为溅射与离子铣（物理）、等离子刻蚀（化学）、反应离子刻蚀（物理+化学）。......
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简述BOE（或BHF）刻蚀SiO2的原理。
问答题简述BOE（或BHF）刻蚀SiO2的原理。
射频放电与直流放电相比有何优点？
问答题射频放电与直流放电相比有何优点？
下图为直流等离子放电的I-V曲线，请分别写出a-g各段的名称。可用作半导体制造工艺中离子轰击的是其中哪一段？试...
问答题下图为直流等离子放电的I-V曲线，请分别写出a-g各段的名称。可用作半导体制造工艺中离子轰击的是其中哪一段？试解释其工作原理。
