JB/T4730.4-2005标准规定：两条或两条以上缺陷磁痕在同一直线上且间距不大于2mm时，按一条磁痕处理，其长度为两条磁痕之和加间距。

JB/T4730.4-2005标准规定：当辩认细小缺陷磁痕时应用2～10倍放大镜进行观察。

判断题JB/T4730.4-2005标准规定：当辩认细小缺陷磁痕时应用2～10倍放大镜进行观察。

荧光磁粉检测时，磁痕的评定应在暗室或暗处进行，暗室或暗处可见光照度应不小于20Lx。

判断题荧光磁粉检测时，磁痕的评定应在暗室或暗处进行，暗室或暗处可见光照度应不小于20Lx。

JB/T4730.4-2005标准规定：采用轴向通电法和触头法磁化时，为了防止电弧烧伤工件表面，应将工件和电极...

判断题JB/T4730.4-2005标准规定：采用轴向通电法和触头法磁化时，为了防止电弧烧伤工件表面，应将工件和电极接触部分清除干净或在电极上安装非导电物质。