单项选择题
A.熔体与坩埚不直接接触B.硅锭中晶粒较细小C.电磁力对硅熔体的作用，可能使硅熔体中掺杂剂的分布更为均匀D.较少晶体缺陷
单晶硅片的电阻率一般控制在（）。A.2～4·cm左右B.1～3·cm左右C.0.5～2·cm左右D.0.1～0...
单项选择题单晶硅片的电阻率一般控制在（）。
A.2～4·cm左右 B.1～3·cm左右 C.0.5～2·cm左右 D.0.1～0.3·cm左右
SiH4不能采用精馏技术进行提纯。
判断题SiH4不能采用精馏技术进行提纯。
MCZ法磁致粘滞性控制了流体的运动，也减少了熔体的温度波动。
判断题MCZ法磁致粘滞性控制了流体的运动，也减少了熔体的温度波动。
