单项选择题
a.体刻蚀加工对基体材料进行加工，而面刻蚀加工不对衬底材料进行加工； b.体刻蚀加工不对基体材料进行加工，而面刻蚀加工对衬底材料进行加工； c.体刻蚀加工可获得高纵横比的结构，而面刻蚀加工只能获得较低纵横比的结构；
光刻加工采用的曝光技术中具有最高分辨率的是（）。A.电子束曝光技术B.离子束曝光技术C.X射线曝光技术
单项选择题光刻加工采用的曝光技术中具有最高分辨率的是（）。
A.电子束曝光技术 B.离子束曝光技术 C.X射线曝光技术
光刻加工的工艺过程为：（）A.①氧化②沉积③曝光④显影⑤还原⑦清洗B.①氧化②涂胶③曝光④显影⑤去胶⑦扩散C....
单项选择题光刻加工的工艺过程为：（）
A.①氧化②沉积③曝光④显影⑤还原⑦清洗 B.①氧化②涂胶③曝光④显影⑤去胶⑦扩散 C.①氧化②涂胶③曝光④显影⑤去胶⑦还原
在进行纳米级测量非导体的零件表面形貌时，常采用的测量仪器为（）。A.光学显微镜B.扫描隧道显微镜C.原子力显微...
单项选择题在进行纳米级测量非导体的零件表面形貌时，常采用的测量仪器为（）。
A.光学显微镜 B.扫描隧道显微镜 C.原子力显微镜
