填空题
知识产权局、专利商标局、特许厅
关于布图设计权产生的形式条件，通常包括（）。A.该布图设计必须投入商业实施B.受保护的布图设计必须固化到集成电...
多项选择题关于布图设计权产生的形式条件，通常包括（）。
A.该布图设计必须投入商业实施 B.受保护的布图设计必须固化到集成电路芯片中 C.布图设计应具有独创性 D.受保护的布图设计必须办理登记手续
《中华人民共和国著作权法》于（）年9月7日通过、（）年10月27日修订。
填空题《中华人民共和国著作权法》于（）年9月7日通过、（）年10月27日修订。
按照技术标准的适用层级，可以将其分为（）A.国际标准B.区域标准C.国家标准D.行业标准
多项选择题按照技术标准的适用层级，可以将其分为（）
A.国际标准 B.区域标准 C.国家标准 D.行业标准
