多项选择题
A.光子能量大于禁带宽度的能量损耗B.抗反射层的吸收和反射C.栅覆盖面积D.光子能量小于禁带宽度引起的损耗
单晶硅锭的两种常见生产工艺有（）A.直拉法B.直熔法C.区熔法D.浇铸法
多项选择题单晶硅锭的两种常见生产工艺有（）
A.直拉法B.直熔法C.区熔法D.浇铸法
常用的酸性腐蚀液配方中硝酸与氢氟酸与醋酸之比为（）A.5：01：01B.6：01：01C.5：03：03D.6...
单项选择题常用的酸性腐蚀液配方中硝酸与氢氟酸与醋酸之比为（）
A.5：01：01 B.6：01：01 C.5：03：03 D.6：03：03
正四面体四个共价键之间的夹角是（）A.109°30’B.109°C.109°25’D.109°28’
单项选择题正四面体四个共价键之间的夹角是（）
A.109°30’ B.109° C.109°25’ D.109°28’
