多项选择题
A.EUV曝光B.电子束光刻C.X射线光刻D.纳米压印技术
光刻胶的主要性能指标有（）A.灵敏度B.分辨率C.抗蚀性D.黏附性
多项选择题光刻胶的主要性能指标有（）
A.灵敏度B.分辨率C.抗蚀性D.黏附性
光刻胶的主要成分有（）A.感光剂B.溶剂C.聚合物材料D.胶水
多项选择题光刻胶的主要成分有（）
A.感光剂B.溶剂C.聚合物材料D.胶水
光刻工艺三要素为（）A.光刻机B.光刻胶C.掩膜版D.涂胶机
多项选择题光刻工艺三要素为（）
A.光刻机B.光刻胶C.掩膜版D.涂胶机
