多项选择题
A.曝光度B.显影液浓度C.显影方法D.工序的温度和时间容量
下列哪些是进行光刻前的预处理的步骤？（）A.脱水烘烤B.旋转涂布法涂HMDSC.气拍涂底法涂HDMSD.软烘
多项选择题下列哪些是进行光刻前的预处理的步骤？（）
A.脱水烘烤B.旋转涂布法涂HMDSC.气拍涂底法涂HDMSD.软烘
根据曝光模式，光制机的种类分为（）。A.接触式曝光B.接近式曝光C.扫描式曝光D.投影式曝光
多项选择题根据曝光模式，光制机的种类分为（）。
A.接触式曝光B.接近式曝光C.扫描式曝光D.投影式曝光
刻蚀的过程中，对刻蚀的要求是（）A.图形的保真度高B.选择比越接近1：1越好C.均匀性好D.晶圆表面的洁净
多项选择题刻蚀的过程中，对刻蚀的要求是（）
A.图形的保真度高B.选择比越接近1：1越好C.均匀性好D.晶圆表面的洁净
