单项选择题
A.酒精 B.NEGA C.POSI D.Solvent
PHOTO工程曝光机设备构造中，不包含的是（）A.照明光学系B.投影光学系C.MASK STAGED.除震系统
单项选择题PHOTO工程曝光机设备构造中，不包含的是（）
A.照明光学系 B.投影光学系 C.MASK STAGE D.除震系统
在Gate Step中，得到Gate Pattern的顺序是（）A.Cleaning->Gate Depo->...
单项选择题在Gate Step中，得到Gate Pattern的顺序是（）
A.Cleaning->Gate Depo->Photo->WET Etch B.Cleaning->Gate Depo->Photo->DRY Etch C.Gate Depo->Cleaning->Photo->WET Etch D.Cleaning->Photo->Gate Depo->WET Etch
PHOTO设备中VCD的作用是（）A.涂布光刻胶B.清洗glass基板C.加热干燥，去除光刻胶里面的solve...
单项选择题PHOTO设备中VCD的作用是（）
A.涂布光刻胶 B.清洗glass基板 C.加热干燥，去除光刻胶里面的solvent D.真空干燥，去除光刻胶里面的solvent
