扩散运动是各向同性的。

扩散率越大，杂质在硅片中的移动速度就越大。

判断题扩散率越大，杂质在硅片中的移动速度就越大。

掺杂的杂质和沾污的杂质是一样的效果。

判断题掺杂的杂质和沾污的杂质是一样的效果。

CD越小，源漏结的掺杂区越深。

判断题CD越小，源漏结的掺杂区越深。