多项选择题
A.膜厚分布均匀B.沉积速率较低C.薄膜纯度高D.原料浪费少
PECVD中,等离子体的激励方式有()。A.电子回旋共振B.直流电场C.微波耦合D.射频电场
多项选择题PECVD中,等离子体的激励方式有()。
A.电子回旋共振B.直流电场C.微波耦合D.射频电场
不同压力下,气体的流动状态可以分为()。A.粘滞流B.粒子流C.过渡流D.分子流
多项选择题不同压力下,气体的流动状态可以分为()。
A.粘滞流B.粒子流C.过渡流D.分子流
欲在一批小尺寸的基板上用小平面源蒸发沉积厚度一致的薄膜,基板相对于蒸发源应该放置在()。A.与小舟相切的球面上...
单项选择题欲在一批小尺寸的基板上用小平面源蒸发沉积厚度一致的薄膜,基板相对于蒸发源应该放置在()。
A.与小舟相切的球面上B.与小舟垂直的球面上C.与基板平行的方向上D.与基板垂直的方向上