多项选择题
A.氧沉淀 B.氧分离 C.氧施主 D.二次缺陷
以下()选项都需要考虑晶体取向的影响。A.管芯划片方向B.单晶片的制备C.单晶材料制备D.器件的制作
多项选择题以下()选项都需要考虑晶体取向的影响。
A.管芯划片方向 B.单晶片的制备 C.单晶材料制备 D.器件的制作
通常用来制作靶的金属材料有()A.铬B.铁C.银D.铜
多项选择题通常用来制作靶的金属材料有()
A.铬 B.铁 C.银 D.铜
抛光时对于样品表面有()要求。A.无氧化B.无浅坑C.无划道D.无沟道
多项选择题抛光时对于样品表面有()要求。
A.无氧化 B.无浅坑 C.无划道 D.无沟道