问答题
紫外(UV)的曝光方法主要有接触式曝光、接近式曝光和投影式曝光。
简述光刻胶的成分特征。
问答题简述光刻胶的成分特征。
简述表征光刻胶特性、性能和质量的参数。
问答题简述表征光刻胶特性、性能和质量的参数。
述集成电路的常规掩模版制备的工艺流程。
问答题述集成电路的常规掩模版制备的工艺流程。