问答题
接触式光刻:分辨率较高,但是容易造成掩模版和光刻胶膜的损伤。接近式曝光:在硅片和掩膜版之间有一个很小的间隙(......
(↓↓↓ 点击下方‘点击查看答案’看完整答案 ↓↓↓)
负胶是怎样的?
问答题负胶是怎样的?
简述正胶。
问答题简述正胶。
光刻三要素分别是什么?
问答题光刻三要素分别是什么?