如果制作栅氧结构，一般采用的方法是（）。

CMOS电路是通过有源区进行隔离的，属于绝缘介质隔离。

判断题CMOS电路是通过有源区进行隔离的，属于绝缘介质隔离。

STI技术相比LOCOS工艺，占地面积更小，而且不会产生鸟嘴效应。

判断题STI技术相比LOCOS工艺，占地面积更小，而且不会产生鸟嘴效应。

光刻时，必须将硅片与掩模版进行对准，不同的掩模版之间也要对准，可以采用仔细观察的方法。

判断题光刻时，必须将硅片与掩模版进行对准，不同的掩模版之间也要对准，可以采用仔细观察的方法。