PVD是指（）

化学汽相淀积的英文缩写是（）A.VPEB.CVDC.PVDD.LASER

单项选择题化学汽相淀积的英文缩写是（）

以下属于新应用/新需求驱动产生的芯片公司是（）A.海思B.寒武纪C.汇顶D.兆芯

单项选择题以下属于新应用/新需求驱动产生的芯片公司是（）

156工程上马（）年以后，中国第一台自主研制的集成电路计算机样机在北京完成。A.半B.一C.二D.三

单项选择题156工程上马（）年以后，中国第一台自主研制的集成电路计算机样机在北京完成。