问答题
根据杂质补偿原理，利用热扩散或离子注入的掺杂技术，在N型和P型之间杂质浓度相等处形成PN结。掺杂硅与硅衬底在杂质浓度相等......
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掺杂的主要目的是什么？给出硅片制造中的三种主要掺杂应用。
问答题掺杂的主要目的是什么？给出硅片制造中的三种主要掺杂应用。
根据下图给出的一氧化工艺的菜单实例，试说明： （1）该工艺采用的氧化方法 （2）每一步骤的具体作用（或状态） ...
根据下图给出的一氧化工艺的菜单实例，试说明： （1）该工艺采用的氧化方法 （2）每一步骤的具体作用（或状态） （3）氮气在整个工艺流程中的作用 （4）工艺过程中加入HCl的主要作用
氧化系统的基本组成结构及每一部分的主要作用。
问答题氧化系统的基本组成结构及每一部分的主要作用。
