单项选择题
A.汽相外延B.液相外延C.分子束外延D.绝缘层上(外延)硅
()是使硅片上的局部区域达到平坦化。A.平滑处理B.部分平坦化C.局部平坦化D.全局平坦化
单项选择题()是使硅片上的局部区域达到平坦化。
A.平滑处理B.部分平坦化C.局部平坦化D.全局平坦化
()不是杂质在半导体中的扩散方式。A.替位式B.间隙式C.替位-间隙式D.跳跃式
单项选择题()不是杂质在半导体中的扩散方式。
A.替位式B.间隙式C.替位-间隙式D.跳跃式
用来描述扩散运动快慢的物理量是()A.扩散流密度B.扩散因子C.扩散系数D.扩散分压
单项选择题用来描述扩散运动快慢的物理量是()
A.扩散流密度B.扩散因子C.扩散系数D.扩散分压