圆筒式等离子刻蚀的（），适用于（）工艺；反应离子刻蚀，（），可以用通入不同的工艺气体，实现好的选择性，适合于对（）和（）的刻蚀。

干法刻蚀的终点检测有许多方法，通常采用的是（）终点检测方法。

填空题干法刻蚀的终点检测有许多方法，通常采用的是（）终点检测方法。

实用的等离子体刻蚀工艺必须满足哪些条件？

问答题实用的等离子体刻蚀工艺必须满足哪些条件？

离子注入掺杂剂量偏差的原因主要来源于：（）、（）和可能的（）。 例如：当作28Si+注入时，可能有真空系统中剩...

填空题离子注入掺杂剂量偏差的原因主要来源于：（）、（）和可能的（）。 例如：当作²⁸Si⁺注入时，可能有真空系统中剩余气体产生的（）也会同时注入。