制作电阻分压器共需要三次光刻，分别是（）、（）和（）。

解释质量输运限制CVD工艺和反应速度限制CVD工艺的区别，哪种工艺依赖于温度，LPCVD和APCVD各属于哪种...

问答题解释质量输运限制CVD工艺和反应速度限制CVD工艺的区别，哪种工艺依赖于温度，LPCVD和APCVD各属于哪种类型？

离子注入后为什么要退火，高温退火和快速热处理哪个更优越，为什么？

问答题离子注入后为什么要退火，高温退火和快速热处理哪个更优越，为什么？

为什么栅介质层的厚度减少有一个大致的极限？为什么现在需要高K值（介电常数）的栅介质？低K介质用在什么地方？为什...

问答题为什么栅介质层的厚度减少有一个大致的极限？为什么现在需要高K值（介电常数）的栅介质？低K介质用在什么地方？为什么？